@article { author = {Nezamdost, Seyed Jafar}, title = {Fe/Al/Fe Tritilayers; Thin Film; High Temperature in X-Ray Diffraction (HT-XRD)}, journal = {Nashrieh Shimi va Mohandesi Shimi Iran}, volume = {37}, number = {4}, pages = {1-9}, year = {2019}, publisher = {Iranian Institute of Research and Development in Chemical Industries (IRDCI)-ACECR}, issn = {1022-7768}, eissn = {}, doi = {}, abstract = {IIn this paper, the results of the structure and magnetic properties of Fe/Al/Fe multilayers were prepared on monocrystalline Si were investigated. Thin films were obtained by RF Magnetron Sputtering Method (RF-MSM). The results of XRD analysis show that the preferred direction of Fe/Al/Fe multilayers is oriented (200). Then, the thermal behavior of samples in high temperatures in vacuum was studied using HT – XRD analysis between 26°C-800°C at 180min. Finally, the morphology of surface, gin sized and magnetic properties were studied using AFM, MFM, and AGFM analysis, respectively.}, keywords = {Fe/Al/Fe trilayers,thin films,X-ray diffraction in high-temperature XRD(HT-XRD),Nanolayers}, title_fa = {بررسی ویژگی های ساختاری و مغناطیسی نانوساختار سه لایه ای Fe/Al/Fe بر روی سیلیسیوم}, abstract_fa = {در این پژوهش، نتیجه­ های مربوط به تغییرهای ساختاری و ویژگی­ های مغناطیسی چند لایه ­ای Fe/Al/Fe رشد یافته بر روی زیرلایه ی Si(100) مورد مطالعه قرار گرفت. نانو لایه های نازک به روش کندوپاش مگنترونی RF لایه نشانی شدند به طوری که ضخامت هر لایه  nm30 می‌باشد. نتیجه­ های تحلیل XRD  نشان داد جهت ترجیهی  سه لایه ای Fe/Al/Fe در راستای (200)  می باشد. در ادامه به­ منظور بررسی رفتار گرمایی در دماهای بالا در خلا دستگاه HT – XRD  بین دماهای 26 تا °C 800 به مدت 180 دقیقه مورد استفاده قرار گرفت. در پایان برای بررسی ویژگی ­های ریخت‌شناسی سطح و اندازه ذره­ ها از تحلیل AFM و برای بررسی ویژگی­ های مغناطیسی از تحلیل MFM و  AGFM استفاده شد}, keywords_fa = {سه لایه‌ای Fe/Al/Fe,فیلم نازک,پرتو ایکس در دماهای بالا}, url = {https://www.nsmsi.ir/article_29583.html}, eprint = {https://www.nsmsi.ir/article_29583_c5e2734f2f3a3303fae70ff83d633bf5.pdf} }