%0 Journal Article %T بررسی اثر غلظت تیتانیوم دی اکسید و هیدروژن پراکسید بر روی بازده حذف فتوکاتالیستی 2- نیتروفنول %J نشریه شیمی و مهندسی شیمی ایران %I جهاد دانشگاهی-پژوهشکده توسعه صنایع شیمیایی ایران %Z 1022-7768 %A فیلی زاده, مهرزاد %A عطار, فرید %A فیلی زاده, منصور %A برارپور, سید توفیق %A ذاکری, سید محمد اسماعیل %D 2021 %\ 05/22/2021 %V 40 %N 1 %P 175-185 %! بررسی اثر غلظت تیتانیوم دی اکسید و هیدروژن پراکسید بر روی بازده حذف فتوکاتالیستی 2- نیتروفنول %K 2-نیتروفنول %K حذف خورشیدی %K نانوفتوکاتالیست %K هیدروژن‌ پراکسید %K اثر متقابل %R %X در این پژوهش، اثر متقابل فتوکاتالیست و هیدروژن‌ پراکسید در تابش طبیعی خورشید، در تجزیه‌ آلاینده‌ی صنعتی  2-نیتروفنول بررسی‌ شد. برای این منظور، از نانو فتوکاتالیستTiO2   (P25) استفاده شد و اثر پارامترهای گوناگونی شامل غلظت  نانو فتوکاتالیست، غلظت هیدروژن‌ پراکسید و استفاده ‎ی همزمان از فتوکاتالیست و هیدروژن‌ پراکسید بر روی درصد حذف  مورد تجزیه و تحلیل قرار گرفت. نتیجه­ ها نشان داد، نقطه‌ی بهینه‌ی غلظت نانو فتوکاتالیست و هیدرون‌ پراکسید، زمانی که هر یک به‌ تنهایی برای حذف 2-نیتروفنول مورد استفاده قرار‌ گیرند،  به‌ترتیب 1000 میلی‌‌گرم بر لیتر و 200 میلی‌مولار است. همچنین مشخص شد، در واکنش‏ های حذف خورشیدی آلاینده 2-نیتروفنول نرخ حذف توسط هیدروژن پراکسید به تنهایی می تواند بیش­تر از این نرخ توسط P25  باشد. از  سوی دیگر، استفاده‌ی همزمان از این دو ماده در بهبود بازده‌ی حذف آلاینده موثر بوده و موجب کاهش غلظت بهینه‌ی (موردنیاز از) آن­ ها می ‎شود. با این حال، غلظت های بالای هیدروژن پراکسید، به دلیل وجود اثر مخربِ مقدار اضافی آن، باعث کاهش بازده می ­شود. در حالت بهینه نهایی، غلظت  P25 و هیدروژن ‌پراکسید، به ترتیب 750 میلی‌گرم بر لیتر و 150 میلی‌مولار به دست آمد و در این نقطه، درصد حذف 2-نیتروفنول، پس از تنها ‌یک ساعت تابش نور خورشید، به 95 درصد رسید. %U https://www.nsmsi.ir/article_36724_94febbaa8e9f48b9e075203e1daafa39.pdf