تهیه مرحله‌به‌مرحله اکسید تنگستن بر پایه گرافیت کربونیترید تیواوره-مبنا: بررسی g-C3N4/WO3 بالک و نانوصفحه دوپ شده با گوگرد در تخریب فوتواکسایشی آلاینده متیلن-بلو به کمک تابش نور مرئی

نوع مقاله: علمی-پژوهشی

نویسندگان

1 شیمی-علوم پایه دانشگاه مراغه

2 گروه تحقیقاتی شیمی آلی و نانو (ONG)، گروه شیمی، دانشکده علوم پایه، دانشگاه مراغه، مراغه، ایران

چکیده

در این تحقیق، گرافیت کربونیترید (g-C3N4) بالک دوپ شده با گوگرد به روش پلیمریزاسیون حرارتی با منبع تیواوره تهیه شد و در گام بعدی با روش اسید شویی ورقه ورقه سازی (نانوصفحه) آن انجام شد و بر روی هردو گونه‌ بالک و نانوصفحه‌ تنگستات سدیم بارگذاری کرده و با روش کلسینه، کامپوزیت گرافیت کربونیترید/اکسید تنگستن به روش کلسینه کردن سنتز شد کردیم تا یک ساختار هیبرید آلی-معدنی تولید شود. گرافیت کربونیترید(کامپوزیت‌های ( g-C3N4 بالک و نانوصفحه و کامپوزیت گرافیت کربونیترید/اکسید تنگستن توسط مجموعه‌ای از تکنیک‌هایی مانند FT-IR، UV-Vis جامد، XRD، TEM،EDX، SEM و آنالیز عنصری CHNS شناسایی شد. هر دو ساختار گرافیت کربونیتریدکامپوزیتی بالک ،و نانوصفحه و کامپوزیت آن ( هیبرید آلی-معدنی) جهت انتقال جرم مولکول‌های آلی متیلن-بلو جهت تخریب فتوکاتالیستی با نور مرئی مورد بررسی قرار گرفتند. تخریب فتوکاتالیستی متیلن-بلو با مقدار فتوکاتالیستی از نانوکامپوزیت صفحه‌ای تا بازده 98% در 6=pH پیش رفت و فتوکاتالیست نیز پایداری خوبی از خود نشان داد.

کلیدواژه‌ها

موضوعات