<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<!DOCTYPE ArticleSet PUBLIC "-//NLM//DTD PubMed 2.7//EN" "https://dtd.nlm.nih.gov/ncbi/pubmed/in/PubMed.dtd">
<ArticleSet>
<Article>
<Journal>
				<PublisherName>جهاد دانشگاهی-پژوهشکده توسعه صنایع شیمیایی ایران</PublisherName>
				<JournalTitle>نشریه شیمی و مهندسی شیمی ایران</JournalTitle>
				<Issn>1022-7768</Issn>
				<Volume>32</Volume>
				<Issue>4</Issue>
				<PubDate PubStatus="epublish">
					<Year>2013</Year>
					<Month>12</Month>
					<Day>01</Day>
				</PubDate>
			</Journal>
<ArticleTitle>Synthesis of Low Density Silica Gel Using of Super Critical Liquids</ArticleTitle>
<VernacularTitle>ساخت سیلیکاژل دانسیته پایین با استفاده از مایع‌های فوق بحرانی</VernacularTitle>
			<FirstPage>1</FirstPage>
			<LastPage>16</LastPage>
			<ELocationID EIdType="pii">5547</ELocationID>
			
			
			<Language>FA</Language>
<AuthorList>
<Author>
					<FirstName>ابراهیم</FirstName>
					<LastName>بختیاری دوست</LastName>
<Affiliation>جهاد دانشگاهی واحد صنعتی شریف، گروه پژوهشی شیمی معدنی</Affiliation>

</Author>
<Author>
					<FirstName>علی اصغر</FirstName>
					<LastName>احتشامی</LastName>
<Affiliation>جهاد دانشگاهی واحد صنعتی شریف، گروه پژوهشی شیمی معدنی</Affiliation>

</Author>
<Author>
					<FirstName>قیس</FirstName>
					<LastName>رخشان</LastName>
<Affiliation>جهاد دانشگاهی واحد صنعتی شریف، گروه پژوهشی شیمی معدنی</Affiliation>

</Author>
<Author>
					<FirstName>اصغر</FirstName>
					<LastName>کرمی</LastName>
<Affiliation>جهاد دانشگاهی واحد صنعتی شریف، گروه پژوهشی شیمی معدنی</Affiliation>

</Author>
</AuthorList>
				<PublicationType>Journal Article</PublicationType>
			<History>
				<PubDate PubStatus="received">
					<Year>2014</Year>
					<Month>01</Month>
					<Day>30</Day>
				</PubDate>
			</History>
		<Abstract>&lt;em&gt;Silica gel with low density can be prepared via various methods. According to abundance and low price, using sodium silicate as a silicon source in order to prepare initial seeds is one of the suitable and native methods. In this research, a suitable method based on the cheap raw materials and the ease of preparation was selected. In this method, as in the conventional one, primarily hydrosol was prepared through the reaction of sodium silicate and sulfuric acid. Then after conducting varius tests, the effective factors in reduction of the silica gel density such as: the time of rapid setting, alkalinizing the washing medium of the hydrogel, using solvents with low surface tension to prepare alcogel or acetogel, and curing them in the critical point temperature and pressure of the mentioned solvents were studied. Finally, a product with 0.18 g/cm&lt;sup&gt;3&lt;/sup&gt; density, 7.5% adsorption capacity in 60% relative humidity, 17 micron particle size and 230 m&lt;sup&gt;2&lt;/sup&gt;/g surface area at super critical point of aceton, was synthesized.&lt;/em&gt;</Abstract>
			<OtherAbstract Language="FA">&lt;em&gt;سیلیکاژل با دانسیته پایین به روش ‌های گوناگون تهیه می ‌شود. روش استفاده از سدیم سیلیکات به ‌عنوان منبع&lt;/em&gt;&lt;em&gt; سیلیکون برای تهیه هسته اولیه سیلیسیلیک اسید، با توجه به فراوانی، تولید داخل و قیمت ارزان مواد اولیه مصرفی؛ یکی از روش‌های مناسب و بومی می‌ باشد.  در این پژوهش پس از بررسی اسناد و مدارک علمی، روش مناسب برای ساخت سیلیکاژل با دانسیته پایین بر اساس مواد اولیه ارزان قیمت و مسیر ساده انتخاب شد. در روش منتخب همانند روش معمول، هیدروسل از واکنش سدیم سیلیکات با سولفوریک اسید تهیه شد. با انجام آزمایش‌های گوناگون، عامل‌های مؤثر در کاهش دانسیته مانند زمان گیرش، قلیایی نمودن محیط شستشوی هیدروژل، استفاده از حلال‌های با کشش سطحی پایین در تهیه الکوژل و یا استوژل و پخت آنها در دما و فشار بحرانی این حلال‌ها مورد بررسی قرارگرفت و دستیابی به فراورده ‌ای با دانسیته&lt;/em&gt;&lt;em&gt;g/cm&lt;sup&gt;3&lt;/sup&gt;&lt;/em&gt;&lt;em&gt;18&lt;sub&gt;/&lt;/sub&gt;0، ظرفیت جذب 5&lt;sub&gt;/&lt;/sub&gt;7% در رطوبت نسبی 60%، اندازه ذره ‌های 17 میکرون و سطح فعال (مؤثر) &lt;/em&gt;&lt;em&gt; m&lt;sup&gt;2&lt;/sup&gt;/g&lt;/em&gt;&lt;em&gt;230&lt;/em&gt;&lt;em&gt;با به ‌کارگیری استوژل در نقطه فوق بحرانی استن محقق شد.&lt;/em&gt;</OtherAbstract>
		<ObjectList>
			<Object Type="keyword">
			<Param Name="value">سیلیکاآئروژل</Param>
			</Object>
			<Object Type="keyword">
			<Param Name="value">استوژل</Param>
			</Object>
			<Object Type="keyword">
			<Param Name="value">سیلیکاژل</Param>
			</Object>
			<Object Type="keyword">
			<Param Name="value">دانسیته پایین</Param>
			</Object>
			<Object Type="keyword">
			<Param Name="value">هیدروژل</Param>
			</Object>
			<Object Type="keyword">
			<Param Name="value">سیلیکاسل</Param>
			</Object>
			<Object Type="keyword">
			<Param Name="value">سل‌ژل</Param>
			</Object>
		</ObjectList>
<ArchiveCopySource DocType="pdf">https://www.nsmsi.ir/article_5547_80f2f15983422987ea30d77bb531be86.pdf</ArchiveCopySource>
</Article>
</ArticleSet>
